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【晶圓測溫系統(tǒng)?】藍(lán)色寶石晶片退火的方式

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藍(lán)色寶石晶片退火的方式藍(lán)寶石晶體(Al2O3)是超高亮度的藍(lán)、白光LED發(fā)光材料GaN常用的襯底材質(zhì),而GaN嘉晶的晶體質(zhì)量與所使用的監(jiān)寶石襯底(基板)表面加工質(zhì)量密切相關(guān),尤其是圖形化襯底(PSS)與晶片的表面形貌、翹曲程度聯(lián)系密切,與此同時,晶片的翹曲程度過大,會到平片做GaN磊晶時,平片與外延薄膜脫落,PSS難以聚焦,影響外延品質(zhì)。在藍(lán)寶石襯底的切害I]、雙面研磨以及單面研磨、拋光過程中,雖然部份的加工應(yīng)力會到下一道加工工序釋放出來,但這種應(yīng)力釋放是無序釋放出來,與此同時未釋放出來的加工應(yīng)力會到晶片表面集聚,【晶圓測溫系統(tǒng)】影響藍(lán)色寶石晶片的翹曲程度,嚴(yán)重的翹曲會到后道加工過程產(chǎn)生破片,影響整個加工循環(huán)的晶片質(zhì)量。藍(lán)寶石襯底在加工過程中,需要經(jīng)過退火處理以降低加工應(yīng)力,當(dāng)前的退火工藝采用一步升溫至退火溫度,沒有經(jīng)過過程保溫,加工應(yīng)力釋放不均勻,且藍(lán)色寶石晶片在退火爐中始終不動,爐子的溫度場對加工釋放出來均勻性影響較大,對大尺寸的藍(lán)色寶石晶片影響更為明顯。晶圓測溫系統(tǒng)

晶圓測溫系統(tǒng)

晶圓測溫系統(tǒng)要解決的技術(shù)問題是提出一種高質(zhì)量的藍(lán)色寶石晶片退火方法,適用于對藍(lán)色寶石切割片、雙面研磨片、單片研磨片和拋光片。該發(fā)明可以使得藍(lán)色寶石在切割、研磨和拋光中產(chǎn)生的加工應(yīng)力釋放均勻、充分,可以減小溫度場對加工應(yīng)力釋放的影響。本發(fā)明所使用的技術(shù)方案為一種藍(lán)色寶石晶片的退火方法,在退火過程中,分階段升溫、保溫,并在退火過程中,適度旋轉(zhuǎn)藍(lán)色寶石晶片,該方法使得藍(lán)色寶石在切割、研磨和拋光中產(chǎn)生的加工應(yīng)力釋放均勻、充分,可以減小溫度場對加工應(yīng)力釋放的影響。

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